Volframdisilicid
| Namn | |
|---|---|
|
IUPAC-namn
Volframdisilicid
|
|
| Identifierare | |
|
3D-modell ( JSmol )
|
|
| ECHA InfoCard | 100.031.723 |
|
PubChem CID
|
|
|
CompTox Dashboard ( EPA )
|
|
|
|
|
|
| Egenskaper | |
| WSi 2 | |
| Molar massa | 240,011 g/mol |
| Utseende | blågrå tetragonala kristaller |
| Densitet | 9,3 g/cm 3 |
| Smältpunkt | 2 160 °C (3 920 °F; 2 430 K) |
| olöslig | |
| Faror | |
| NFPA 704 (branddiamant) | |
| Flampunkt | Ej brandfarlig |
| Besläktade föreningar | |
|
Andra anjoner
|
Volframkarbid Volframnitrid |
|
Andra katjoner
|
Molybdendisilicid |
|
Om inte annat anges ges data för material i standardtillstånd (vid 25 °C [77 °F], 100 kPa).
|
|
Volframsilicid ( WSi 2 ) är en oorganisk förening, en silicid av volfram . Det är ett elektriskt ledande keramiskt material.
Kemi
Volframsilicid kan reagera våldsamt med ämnen som starka syror , fluor , oxidationsmedel och interhalogener .
Ansökningar
Det används i mikroelektronik som ett kontaktmaterial, med resistivitet 60–80 μΩ cm; det bildas vid 1000 °C. Den används ofta som en shunt över polykisellinjer för att öka deras konduktivitet och öka signalhastigheten. Volframsilicidskikt kan framställas genom kemisk ångavsättning , t.ex. med användning av monosilan eller diklorsilan med volframhexafluorid som källgaser. Den avsatta filmen är icke- stökiometrisk och kräver glödgning för att omvandlas till mer ledande stökiometrisk form. Volframsilicid är en ersättning för tidigare volframfilmer. Volframsilicid används också som ett barriärskikt mellan kisel och andra metaller, t.ex. volfram.
Volframsilicid är också av värde för användning i mikroelektromekaniska system , där det mestadels används som tunna filmer för tillverkning av mikroskala kretsar. För sådana ändamål kan filmer av volframsilicid plasmaetsas med användning av t.ex. kvävetrifluoridgas .
WSi 2 fungerar bra i applikationer som oxidationsbeständiga beläggningar. I synnerhet, i likhet med Molybdendisilicid , MoSi 2 , gör den höga emissiviteten hos volframdisilicid detta material attraktivt för strålningskylning vid hög temperatur , med implikationer i värmesköldar .