Plasmakällor vetenskap och teknik

Plasmakällor vetenskap och teknik
Språk engelsk
Redigerad av Jag Adamovich
Publiceringsinformation
Historia 1992-nutid
Utgivare
IOP Publishing (Storbritannien)
Frekvens 12
3 584 (2020)
Standardförkortningar
ISO 4 Plasmakällor Sci. Technol.
Indexering
ISSN
0963-0252 (tryckt) 1361-6595 (webb)
Länkar

Plasma Sources Science and Technology är en internationell tidskrift som enbart ägnar sig åt icke- fusionsaspekter av plasmavetenskap .

Tidskriften är indexerad i Scopus , INSPEC Information Services, ISI (SciSearch, ISI Alerting Services, Current Content/Physical, Chemical and Earth Sciences), Chemical Abstracts , INIS Atomindex ( International Nuclear Information System ), NASA Astrophysics Data System , PASCAL Database, Article@ INIST , Engineering Index/Ei Compendex , Cambridge Scientific Abstracts (Environmental Engineering Abstracts, Bioengineering Abstracts) och VINITI Abstracts Journal.

Chefredaktörer

Redaktör år Institution
Prof. Noah Hershkowitz 1992 - 2007 University of Wisconsin–Madison
Prof. Mark J. Kushner 2007 - 2013 Michigan Institute for Plasma Science and Engineering, University of Michigan
Prof. Bill Graham 2013 - 2017 Queen's University Belfast
Prof. Uwe Czarnetzki 2017 - Nuvarande Ruhruniversitetet Bochum

externa länkar